某半导体设备电子器件制造厂在晶圆制造历程中，用到硅烷来进行硅外延性发育，废气清洗塔生成高酸度含硅污水。污水体现了pH起伏大（2-11）、硅水分含量高的共同点，传统型净化处理技术易突然出现硅垢堵塞了原因。 废污水基本成分及来自 污水关键组成为： 分解性硅酸盐 ：SiO₂溶液浓度达1000-1500mg/L 硫酸钠/氢腐蚀钠 ：洗洁塔酸碱性洗洁液无残留 颗粒肥料硅 ：纳米技术级SiO₂固体 痕量砷 ：辅料悬浮物带往 工作工艺标准流程标准流程 研发所采用"多级中合+膜滤出+蒸发器沉淀"工艺流程： 七级与 ：用CaO调低pH至4-5，生成二维码硅酸钙沉淀物，硅除去率60%。 两级中合 ：加Na₂CO₃将pH增加至9，进1步沉垫剩于硅，串并联用镁剂除砷。 超滤膜操作系统 ：0.02μm工业陶瓷膜滤水nm级硅颗料，通量稳定可靠在80LMH。 MVR挥发器 ：浓缩提炼高盐废水处理方法，晶体出Na₂SO₄副产物的，水循环率超90%。 结果英文体验 总硅从1500mg/L降下来5mg/L下列 砷含锌量从0.8mg/L调至0.01mg/L 设计无结渣启用超出2年 每次回收并浓盐酸钠多晶体约800吨