电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理
文章来源:8b5f.com | | 阅读量:103 收录日期:2026-06-27
该晶圆制造商厂处于华中地段,最主要生产方式的84英寸光电器件晶圆,每日工业废水尾气排放出标淮量约800吨。犹豫生产方式的的时候中采用大量的氢佛酸参与晶圆蚀刻,以至于工业废海里氟化物溶液浓度高至200-300mg/L,远超祖国尾气排放出标淮标淮(10mg/L以下的)。
化工废水营养成分及来源地
废水处理工艺通常来自于5个阶段:
晶圆蚀刻繁琐流程
:含高溶度氟化物(HF)、氰化钠及少量的血本属
电学自动化设备抛光处理(CMP)生产废水
:含纳米级级硅颗粒状、有机会络合剂
机 的清洗化工废水
:含异丙醇、氟化物等设计物
补救制作工艺方法
选取"电化学积淀+混凝土积淀+进一步过滤水"三级职业资格证书处理机系统:
一級整理
:污泥脱水氯化钙和氢硫化钙,行成氟化钙沉淀物,氟化物弄掉率达85%
两级治疗
:插入PAC(配位碱式氯化铝)和PAM(pp聚丙烯酰胺),删去溶液态破坏物
3级正确处理
:进行多媒质净化器和活性酶炭活性炭吸附,出水量氟化物氧浓度比较稳定在8mg/L下面的
重点的设备包涵:pH定时自动调节操作系统、斜管析出池、板框压泥机(飞灰脱水烘干)。
结果使用效果
項目启用五年期监控数据库提示 :
氟化物总值浓硫酸浓度:7.2mg/L(大于的国家条件)
COD取除率:92%
厌氧颗粒污泥含水量率:≤65%
年收废氟化钙副產品约150吨,实现目标自然资源化再生利用率