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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制造商厂处于华中地段,最主要生产方式的84英寸光电器件晶圆,每日工业废水尾气排放出标淮量约800吨。犹豫生产方式的的时候中采用大量的氢佛酸参与晶圆蚀刻,以至于工业废海里氟化物溶液浓度高至200-300mg/L,远超祖国尾气排放出标淮标淮(10mg/L以下的)。 化工废水营养成分及来源地 废水处理工艺通常来自于5个阶段: 晶圆蚀刻繁琐流程 :含高溶度氟化物(HF)、氰化钠及少量的血本属 电学自动化设备抛光处理(CMP)生产废水 :含纳米级级硅颗粒状、有机会络合剂 机 的清洗化工废水 :含异丙醇、氟化物等设计物 补救制作工艺方法 选取"电化学积淀+混凝土积淀+进一步过滤水"三级职业资格证书处理机系统: 一級整理 :污泥脱水氯化钙和氢硫化钙,行成氟化钙沉淀物,氟化物弄掉率达85% 两级治疗 :插入PAC(配位碱式氯化铝)和PAM(pp聚丙烯酰胺),删去溶液态破坏物 3级正确处理 :进行多媒质净化器和活性酶炭活性炭吸附,出水量氟化物氧浓度比较稳定在8mg/L下面的 重点的设备包涵:pH定时自动调节操作系统、斜管析出池、板框压泥机(飞灰脱水烘干)。 结果使用效果 項目启用五年期监控数据库提示 : 氟化物总值浓硫酸浓度:7.2mg/L(大于的国家条件) COD取除率:92% 厌氧颗粒污泥含水量率:≤65% 年收废氟化钙副產品约150吨,实现目标自然资源化再生利用率

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